輕金屬微弧氧化價(jià)格-輕金屬微弧氧化-日照微弧氧化電源

微弧氧化電流密度的選定還必須與其他工藝條件和性能要求相結(jié)合。這些工藝條件包括電解液組成和溫度、基材成分、電源模式等。微弧氧化突破傳統(tǒng)陽(yáng)*氧化的限制，輕金屬微弧氧化優(yōu)勢(shì)，利用電*間施加很高的電壓使浸在電解液中的電*表面發(fā)生微弧放電現(xiàn)象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。實(shí)驗(yàn)表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，輕金屬微弧氧化廠家，如果電壓過(guò)低，陶瓷層生長(zhǎng)速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低;工作電壓過(guò)高，工件易出現(xiàn)燒蝕現(xiàn)象，輕金屬微弧氧化價(jià)格，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。
溫度對(duì)微弧氧化的影響
微弧氧化與陽(yáng)*氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會(huì)形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，輕金屬微弧氧化，微弧氧化過(guò)程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過(guò)程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源
微弧氧化技術(shù)是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種鋁、鎂合金表面陶瓷化處理技術(shù)，它是鋁、鎂合金在電解液中通過(guò)高壓電場(chǎng)作用下的放電火花燒結(jié)，在其表面生成一層由α-al2o3 和γ-al2o3為主要成分并與基體形成冶金結(jié)合的氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層，氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層的高硬度、高阻*和穩(wěn)定性滿(mǎn)足鋁、鎂合金防海水腐蝕和高溫?zé)嵛g以及改善其*性等。
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